超聲波清洗器清洗芯片的方法：
以下是芯片表面的清洗方法：
預(yù)清洗：用去離子水利用超聲波清洗器對(duì)芯片進(jìn)行預(yù)清洗，去離子水的溫度為50～60度。
堿洗：芯片置于堿性溶液中利用超聲波進(jìn)行清洗，堿性溶液的溫度為80～90度，較佳地，該堿性溶液可為氫氧化鈉溶液，濃度為2％～5％，清洗時(shí)間為5～10分鐘，在此步驟中，氫氧化鈉溶液的溫度不宜過(guò)高，如20～25度為佳。
有機(jī)溶劑清洗：芯片置于異丙醇和水的混合液中利用超聲波進(jìn)行清洗，時(shí)間為5～10分鐘，該步驟可有效去除芯片表面的有機(jī)殘留物。
酸洗：配制檸檬酸和去離子水的混合液，混合液的pH值為5～6。芯片被置于到該酸性溶液中，借助超聲波振蕩清洗技術(shù)，使芯片表面快速進(jìn)行中和反應(yīng)。
去離子水漂洗：用去離子水漂洗該芯片，漂洗時(shí)間為20～30分鐘，經(jīng)過(guò)漂洗，芯片表面的酸液、堿液等清洗液殘留被漂洗干凈。
碳?xì)淝逑矗涸谏喜降娜ルx子水中加入碳?xì)淙軇^而排除去離子水。
熱焓干燥：將芯片從清洗溶液中取出并進(jìn)行熱焓干燥，該工序利用溫度壓力的變化，降低芯片上的焓值，使殘留液快速蒸發(fā)。
